半導體生產中應用的超純水設備都由哪些工藝組成？
時間：2023-09-19
半導體是作為一種電子性質介于導體和絕緣體之間的材料，具有重要的電子學和光電學性質，廣泛用于電子、光電和信息技術領域。其在制造過程中需要清洗的超純水，幾乎每道工序都需要超純水作為清洗用水，為了更好地為半導體生產清洗用水供給，超純水設備也在增加生產力度。
目前，半導體生產中應用的超純水設備摒棄了傳統工藝，核心是采用的膜法技術，應用反滲透工藝與EDI和混床工藝來生產超純水，不僅產水量增加，出水電導率可達18.2mΩ， 滿足了芯片行業用水需求。
該超純水設備采用的核心工藝組成介紹如下：
1、反滲透工藝：利用反向滲透原理，有效除去水中溶解鹽類、有機物、膠體、大分子物質等，降低水質的離子含量。
2、EDI模塊：無需酸堿再生，運行成本低，EDI系統的自動化程度很高，可以連續工作，出水水質好且穩定，出水電阻率≥15MΩ·CM。
3、拋光混床工藝：專門用于高純度的水處理系統中的終端精制器，能夠將水中的離子含量降到PPB級別，出水電阻率可達18.2MΩ·CM。
以上，介紹的工藝就是目前半導體生產應用的超純水設備核心工藝組成。萊特萊德水處理設備公司超純水設備在保證出水達標的同時，還考量了日常使用方便性、耗材更換方便性、擴建前瞻預判等細節，為半導體生產提供了高品質的超純水。
轉載時請注明文章來源“萊特萊德”，否則視為侵權，感謝配合。
編輯：柒柒 技術：米
公司新聞new
- 海水淡化科技突破，解鎖水資源發展新圖景
- 膜分離設備在番茄紅素提取領域優勢突出
- 大型反滲透設備的多元應用與價值
- 青蒿素提純用植物提取設備有什么好處？
- 光伏廢水處理難題依托廢水回收工藝解決
- 電廠脫硫廢水怎樣實現零排放目標？
- 火力發電廠脫硫廢水零排放如何實現?
- MBR平板膜清洗：時間要求及注意事項
- 小型海水淡化設備穩定供給海上作業優質淡水
- EDI超純水設備產水與普通純凈水有何差異?
工程業績new
- 某沿海城市的海水淡化項目案例分析
- 山東某精細化工廠高濃度有機廢水處理項目
- 高效除鐵錳過濾系統在海水淡化項目中的應用
- Aproclean系列智能高效過濾系統優勢介紹
- 某海島集裝箱海水淡化設備項目
- 內蒙古某火力電廠廢水近零排放項目
- 大連某印染公司中水回用項目
- 500m3/h中水回用及部分零排放系統
- 山西某燃煤電廠中水回用項目
- 青島某電廠安裝集裝箱海水淡化系統現場
關于我們
工程業績
獲取方案
電話咨詢 